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  光學(xué)合成孔徑系統(tǒng)的成像方式有兩類：直接成像和干涉成像［４５］。直接成像和單孔徑成像的方式相同。

  干涉成像根據(jù)范西特澤尼克定理（ＶａｎＣｉｔｔｅｒｔＺｅｒｎｉｋｅｔｈｅｏｒｅｍ），利用干涉圖樣測量目標(biāo)源的復(fù)相干度譜，然后利用傅里葉逆變換得到光源的大小和強(qiáng)度分布，實(shí)現(xiàn)對目標(biāo)的間接成像。

  分別示意了單一孔徑、光學(xué)合成孔徑直接成像和間接干涉成像的原理。圖中只畫出了一維圖形，二維情況可由一維類推。圖中左列表示

  頻域圖形，右列表示空域圖形。⌒表示傅里葉變換，表示卷積，×表示乘法。從其原理示意圖可以看出單一孔徑成像時，同時獲得物體的不同空間頻率信息，但受到截止頻率的限制，高于截止頻率的信息丟失。

  光學(xué)合成孔徑直接成像時，同樣是同時獲得物體的不同空間頻率信息，但是由于孔徑的擴(kuò)大，其獲得的空間頻率要多于單一孔徑，即其截止頻率一般大于單一孔徑時的截止頻率。

  間接成像需要通過改變孔徑之間的距離獲取不同空間頻率的圖像。因此，需要應(yīng)用范西特澤尼克定理將不同的空間頻率圖像合成為一幅圖像。間接成像不能實(shí)現(xiàn)實(shí)時成像。